화면 노출 기계에 대한 컴퓨터는 최고 1270DPI까지 해결로 고해상도, 방수 에멀젼 노출 수용액입니다. 그것은 3μm-350μm 사이의 두께 범위로 다양한 기판을 위한 인쇄 프로세스에 대한 복잡한 세부를 취급하도록 설계됩니다. 그것은 가능한 최고 정밀도와 명료성을 보증하기 위해 DMD DLP 기술과 자동차 집속 시스템을 활용합니다. 기계는 1 비트 Tiff / 거버 274x 파일 형태 최고 100LPI까지 래스터를 취급할 수 있습니다.
매개 변수 | 상술 |
---|---|
민. 프레임 크기 | 400mm*500mm |
민 화면 크기 (밀리미터) | 400x400mm/ 15.8x15.8 |
파일 형태 | 1_bit Tiff/ 거버 274x |
스페시픽에이온 / 모델 | CTS 910V |
애플리케이션 | 직물, 전사지, 브랜드, 장식, 패키징과 PCB Etc. |
맥스 노출 사이즈 (밀리미터) | 850x950mm/ 33.5x37.4 |
포커스계 | 자동 초점 조절 |
상태 | 40-70% 상대 습도 (비결노 상태)인 Cleanliness100000, 온도 22±2' C와 노란불 방 |
래스터 | 최고 100LPI |
레이저 유형 | UV 레이저, 사고 방식 405±5nm |
UV 레이저 | 예 |
사고 방식 | 405±5 별거 안 해 |
고해상도 | 예 |
노출 시간 | 예 |
자동 초점 조절 | 예 |
컴퓨터가 노출 기계를 지킵니다
브랜드명 : GIS
모델 번호 : CTS910V
원산지 : 스초우, 중국
노출 시간 : 120-240s/㎡ #350 노랑색 메쉬
애플리케이션 : 직물, 전사지, 브랜드, 장식, 패키징과 PCB Etc.
화상 처리 시스템 : DMD DLP 기술
파일 형태 : 1_bit Tiff/ 거버 274x
민. 프레임 크기 : 400mm*500mm
키특성 : 최고 120까지 라인, 방수 에멀젼 3μm-350μm
화면 노출 기계에 대한 컴퓨터는 최고 1270DPI까지 해결로 고해상도, 방수 에멀젼 노출 수용액입니다. 그것은 3μm-350μm 사이의 두께 범위로 다양한 기판을 위한 인쇄 프로세스에 대한 복잡한 세부를 취급하도록 설계됩니다. 그것은 가능한 최고 정밀도와 명료성을 보증하기 위해 DMD DLP 기술과 자동차 집속 시스템을 활용합니다. 기계는 1 비트 Tiff / 거버 274x 파일 형태 최고 100LPI까지 래스터를 취급할 수 있습니다.
매개 변수 | 상술 |
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민. 프레임 크기 | 400mm*500mm |
민 화면 크기 (밀리미터) | 400x400mm/ 15.8x15.8 |
파일 형태 | 1_bit Tiff/ 거버 274x |
스페시픽에이온 / 모델 | CTS 910V |
애플리케이션 | 직물, 전사지, 브랜드, 장식, 패키징과 PCB Etc. |
맥스 노출 사이즈 (밀리미터) | 850x950mm/ 33.5x37.4 |
포커스계 | 자동 초점 조절 |
상태 | 40-70% 상대 습도 (비결노 상태)인 Cleanliness100000, 온도 22±2' C와 노란불 방 |
래스터 | 최고 100LPI |
레이저 유형 | UV 레이저, 사고 방식 405±5nm |
UV 레이저 | 예 |
사고 방식 | 405±5 별거 안 해 |
고해상도 | 예 |
노출 시간 | 예 |
자동 초점 조절 | 예 |
컴퓨터가 노출 기계를 지킵니다
브랜드명 : GIS
모델 번호 : CTS910V
원산지 : 스초우, 중국
노출 시간 : 120-240s/㎡ #350 노랑색 메쉬
애플리케이션 : 직물, 전사지, 브랜드, 장식, 패키징과 PCB Etc.
화상 처리 시스템 : DMD DLP 기술
파일 형태 : 1_bit Tiff/ 거버 274x
민. 프레임 크기 : 400mm*500mm
키특성 : 최고 120까지 라인, 방수 에멀젼 3μm-350μm